含水碱性清洁组合物及其应用方法 

本发明涉及含水碱性清洁组合物,其不含有机溶剂和不含无金属离子的硅酸盐,所述组合物含有:(A)具有至少一个伯氨基和至少一个巯基的硫代氨基酸;(B)季铵氢氧化物;(C)选自以下的螯合剂和/或腐蚀抑制剂:具有至少两个伯氨基的脂族和脂环族的胺,和具有至少一个羟基的脂族和脂环族的胺;(D)选自以下的非离子性表面活性剂:炔属醇,烷...
巴斯夫欧洲公司  中国专利  2013年 下载次数(0)| 被引次数(0)

含N取代的二氮烯*二氧化物和/或N’-羟基-二氮烯*氧化物盐的含水抛光组合物 

本发明涉及一种含水抛光组合物,其包含:(A)至少一种水溶性或水分散性化合物,其选自N-取代的二氮烯二氧化物和N′-羟基-二氮烯氧化物盐;和(B)至少一种类型的磨料颗粒;化合物(A)在制造电子、机械和光学器件中的用途以及利用所述含水抛光组合物抛光电子、机械和光学器件用基底材料的方法。
巴斯夫欧洲公司  中国专利  2013年 下载次数(0)| 被引次数(0)

用于化学机械抛光电子、机械和光学器件用基底材料的含水抛光组合物和方法 

本发明涉及一种含水抛光组合物,其包含:(A)当其分散在pH为3-9的含水介质中时带正电荷的磨料颗粒,这通过电泳淌度证明;(B)水溶性和水分散性的含羟基组分,其选自:(b1)脂族和脂环族羟基羧酸,其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少1;(b2)具有至少一个羟基的羟基羧酸(b1)的酯和内酯;和(b3)其混合物;以及(C)选自以...
巴斯夫欧洲公司  中国专利  2013年 下载次数(0)| 被引次数(0)

偶氮金属螯合物染料和光记录介质 

本发明提供一种染料,其可用于在高速记录特性和再生耐久性方面兼具优异特性的光记录介质。本发明的染料为使由下式所示的偶氮化合物与金属离子配位而成的染料。环A表示具有碳原子和氮原子而形成的含氮芳杂环。X表示C-R1R2、氧原子、硫原子或N-R3。其中,R1、R2和R3各自独立地表示氢原子、直链或支链的烷基、芳烷基、环烷基、直...
三菱化学媒体股份有限公司  中国专利  2011年 下载次数(0)| 被引次数(0)

稀土掺杂Eu(TTA)_3/PMMA温敏漆的制备及性能研究 

本文以稀土氧化物、α-噻吩甲酰基三氟丙酮(HTTA)为原料合成了稀土掺杂Eu(TTA)3探针分子。将探针分子掺杂到聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中,获得了稀土掺杂Eu(TTA)3/PMMA温敏漆。采用红外光谱、扫描电镜、紫外可见近红外吸收光谱及荧光光谱对探针分子及温敏漆的性能进行表征。红外光谱表明,稀土与TTA形成配位键...
长春理工大学  硕士论文  2013年 下载次数(138)| 被引次数(1)

研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法 

本发明提供一种研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法。本发明涉及含有水、4价金属氢氧化物粒子及添加剂的研磨剂,该添加剂含有阳离子性的聚合物和阳离子性的多糖类中的至少一者。本发明提供一种在使绝缘膜平坦化的CMP技术中可以高速且低研磨损伤地研磨绝缘膜、且氧化硅膜与停止膜的研磨速度比高的研磨剂。而且提供一种保管该研磨剂时的研磨剂...
日立化成工业株式会社  中国专利  2012年 下载次数(0)| 被引次数(0)

CMP用研磨液以及研磨方法 

本发明涉及CMP用研磨液以及研磨方法,该CMP用研磨液包含介质、分散在前述介质中的胶态二氧化硅粒子、氧化金属溶解剂、金属防蚀剂和氧化剂,胶态二氧化硅粒子满足以下3个条件的全部。(1)从通过扫描电子显微镜观察任意20个粒子所得到的图像中得到的二轴平均一次粒径(R1)为35~55nm;(2)与在(1)中求得的R1相同粒径的...
日立化成工业株式会社  中国专利  2012年 下载次数(0)| 被引次数(0)

在光学数据载体的信息层中作为吸光化合物的金属配合物 

对于包含优选透明的基材的光学数据载体本发明提供了新的金属配合物,该基材任选已经通过一个或多个反射层涂覆并且其表面已经涂覆可光写的信息层,任选一个或多个反射层和任选保护层或其它基材或覆盖层,该光学数据载体可以通过蓝或红光,优选激光写和读,其中信息层包含吸光化合物和任选的粘合剂,特征...
兰爱克谢斯德国有限责任公司  中国专利  2006年 下载次数(0)| 被引次数(0)