薄膜成像中的自适应光学技术研究 

薄膜衍射成像在成为轻量化大口径天基望远镜的重要发展方向时,也面临一些亟待解决的关键问题。譬如薄膜元件环带结构不可避免的加工缺陷,薄膜材料在空间环境中的形变,系统运行扰动对成像光学参数的影响,望远镜空间布置时引入的光学误差,以及成像参数的长期可靠性与稳定性等问题。论文从成像光束波前畸变出发,提出了基于自适应光...
中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所)  博士论文  2018年 下载次数(320)| 被引次数(2)

薄膜诱导波前像差 

用于望远镜反射镜或其他光学表面的膜层会对光学系统的成像质量产生重要影响。本文计算了由膜层对S、P分量的相移而引起的像散和离焦。薄膜诱导波前像差通常是可以忽略的 ,但在某些情况下会超过系统的几何波前像差。本文以F数为 f/ 1.5 的卡塞格林望远系统中所用反射增强型薄膜的诱导波前像差为...
《光机电信息》  2003年 第10期 下载次数(59)| 被引次数(0)

基于微机械薄膜变形镜的闭环实时模式复原 

为了求解基于微机械薄膜变形镜自适应光学系统的最优模式控制电压,以使系统的入射畸变波前像差降到最小,采用了一种基于改进的奇异值分解闭环实时模式复原算法,可通过调整控制参量g1,gθ和W来优化波前复原的复原精度和收敛速度;采用一人眼出射畸变波前像差作为自适应光学系统的原始波前...
《激光技术》  2008年 第06期 下载次数(90)| 被引次数(2)

用于对波前像差具有定制的响应的图案设计的方法和系统 

本发明公开了用于对波前像差具有定制的响应的图案设计的方法和系统。本发明涉及用于设计量测器图案的方法和系统,其对参数变化尤其灵敏,因此在对用于成像具有多个特征的目标设计的光刻过程的校准中对随机的和重复的测量误差是鲁棒性的。所述方法可以包括以优化的辅助特征位置识别最灵敏的线宽/节距组合,其导致了对光刻过程参数变...
ASML荷兰有限公司  中国专利  2013年 下载次数(0)| 被引次数(0)

用于减小波前像差的方法和计算机程序产品 

用于减小波前像差的方法,用于光刻工艺,所述减小处理基于待印的选定图案和用于曝光的选定照射模式。通过计算投影系统的光学元件的调节、并且将已计算的调节应用于投影系统,来测量和减小光刻设备的投影系统的波前像差。调节的计算是基于有关对辐射敏感层进行曝光期间存在于投...
ASML荷兰有限公司  中国专利  2008年 下载次数(0)| 被引次数(0)

规格确定方法、投射光学系统制造方法和调节方法、曝光设备及其制造方法以及计算机系统 

一个计算机系统包括一个第一计算机和一个第二计算机;一个光学设备需要实现的目标信息输入到该第一计算机中;该第二计算机根据借助于通讯线路从第一计算机接收来的目标信息并使用投射光学系统需要满足的波前像差量作为标准来确定一个投射光学系统的规格。因此,在制造投射光学系统的过程中,通过根据测量波前像差的结果...
株式会社尼康  中国专利  2002年 下载次数(0)| 被引次数(0)

基于多视场波前传感的次镜位置误差检测方法 

大口径分块式主镜空间对地遥感系统在轨工作时,次镜相对于主镜的位置失调会对系统像质产生影响,需对其进行在轨检测与校正。当分块式主镜无中心基准镜时,无法用传统的灵敏度矩阵反演法计算出次镜失调量。为此,提出了一种基于多视场波前传感信息计算次镜位置失调量的方法,采用ZEMAX软件建立了无中心基准的36分块式主镜空间...
《红外与激光工程》  2018年 第08期 下载次数(43)| 被引次数()

投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法 

一种投射镜头(PO),用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至投射镜头的像平面(IS)上,投射镜头包含多个反射镜(M1-M6),其具有设置于该物平面与该像平面之间的投射射束路径中的反射镜表面,使得设置于物平面中的掩模(M)的图案可通过所述反射镜成像至像平面...
卡尔蔡司SMT有限责任公司  中国专利  2020年 下载次数(0)| 被引次数(0)

投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法 

一种投射镜头(PO),用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至投射镜头的像平面(IS)上,投射镜头包含多个反射镜(M1#M6),其具有设置于该物平面与该像平面之间的投射射束路径中的反射镜表面,使得设置于物平面中的掩模(M)的图案可通过所述反射镜成像至像平面...
卡尔蔡司SMT有限责任公司  中国专利  2017年 下载次数(0)| 被引次数(0)

具有对由掩模引起的成像像差的校正的操作投射曝光设备的方法 

本发明涉及针对掩模适配微光刻的投射曝光设备的方法,该掩模具有在不同的结构方向具有不同节距和/或不同结构宽度的结构,其中通过微光刻的投射曝光设备的操纵器减小由掩模引起的波前像差
卡尔蔡司SMT有限责任公司  中国专利  2012年 下载次数(0)| 被引次数(0)

具有动态光瞳填充的剪切干涉仪 

一种包括电磁辐射源的波前测量系统。把所述电磁辐射传送到物平面的照明系统。衍射图案的源在物平面内。投射光学系统把衍射图案投射到像平面,该投射光学系统包括引进横向剪切的机构(如剪切光栅)。检测器置于光学上与投射光学系统的光瞳共轭位置,并从像平面接收剪切波前之间...
ASML控股股份有限公司  中国专利  2005年 下载次数(0)| 被引次数(0)

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