提高平板显示屏镀膜应用中的靶材利用率 

平板显示屏的经济生产,不仅要求可靠的工艺技术,而且绝对要求较高的靶利用率。本文介绍了在保持ITO工艺的标准阴极法所获得的膜特性基础上,用移动磁场的方法可以获得>50%的靶利用率
《液晶与显示》  1998年 第02期 下载次数(86)| 被引次数(2)

一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置 

本实用新型创造提供了一种用于提高磁控溅射中靶利用率的装置,包括靶材基座、以及靶材基座上设置的磁力组件,所述靶材基座上设有用于设置磁力组件的装配槽;所述磁力组件包括装配槽底部间隔设置的数个磁芯、以及磁芯上水平设置的背板。本实用新型创造结构简单,成本低,还能在不改造整体设备的情况下,完善平面靶的利用空间,本实用...
天津南玻节能玻璃有限公司  中国专利  2020年 下载次数(0)| 被引次数(0)

外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响 

通过在基片上直接放置一块永久磁铁来研究外加磁场对磁控溅射靶利用率的影响。实验发现 ,外加磁场的引入改变了靶表面附近的磁场分布 ,因而靶的刻蚀环的位置、宽度和深度均发生了明显的变化 ,靶的利用率在S S构型和S N构型中均比无外加磁场时要高。利用空间模拟磁场成功的解释这一实验现象。在S S构型和S N构型中 ,后者靶的刻...
《真空科学与技术》  2003年 第02期 下载次数(291)| 被引次数(28)

用RF/DC Move Mag法淀积的彩色滤光用低电阻率ITO薄膜 

对MoveMag阴极(旨在提高靶利用率)叠加RF的DC磁控溅射方法所淀积的低电阻率ITO膜的结果进行了讨论。实验是在一个串级溅射系统ARISTO500S上进行的,可用基片面积高达570×1350mm2,在基片温度200℃及靶利用率高于40%的条件下,在玻璃(浮法玻璃)上得到电阻率小于150μΩcm的ITO薄膜。
《液晶与显示》  1998年 第02期 下载次数(41)| 被引次数(1)

CPA型磁控溅射设备靶改进及磁场模拟分析研究 

磁控溅射镀膜是当前主要的薄膜沉积方式之一,被广泛应用在微电子、光学薄膜和材料表面处理领域中。特别是在大面积镀膜方面更具明显的优势。生产过程中比较关注溅射镀膜时的沉积速率、靶材的利用率等因素。由于磁场设计排布和靶的设计对这两个方面有着决定性的影响,因此必须对靶和磁场进行优化设计。 论文第二章简述了溅射发展的历程,根...
电子科技大学  硕士论文  2010年 下载次数(244)| 被引次数(3)

用于截头圆锥形溅射靶的高靶利用率磁性装置 

磁控管溅射涂敷系统具有磁控管阴极(20),该阴极包括截头圆锥形靶(25),该靶具有锥形磁体组件(30),该磁体组件在靶(25)未侵蚀时在主磁力隧道下方在靶(25)的中间半径或中心线处产生最高的侵蚀率,且随着靶的侵蚀,最高侵蚀率的位置逐渐转移到两个区域,一个是半径小于靶中心线的内部区域,一个是半径大于靶中心线的外部区域。...
东京电子株式会社  中国专利  2002年 下载次数(1)| 被引次数(0)